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本文主要是真空室專用真空系統(tǒng)的介紹。真空系統(tǒng)的核心是真空室，它是針對具體應(yīng)用量身定做的。它包括應(yīng)用并將其可靠地與外部分離或防止環(huán)境受內(nèi)部流程影響。不管干燥過程是否需要高真空環(huán)境，等離子體過程都需要在中或高真空環(huán)境下進行，而表面研究也需要在高真空環(huán)境下進行：真空室必須始終機械地承受其與大氣的壓差。

真空室是廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代制造工業(yè)和科學(xué)研究的基本裝置之一，例如電子工業(yè)、信息產(chǎn)業(yè)的大規(guī)模印刷線路、集成電路和大面積超導(dǎo)薄膜的制備等，真空沉積過程中通常對真空度都有較高的要求。真空沉積時真空室的漏氣、真空室壁面的放氣和被蒸發(fā)材料本身的放氣都可能導(dǎo)致真空室內(nèi)真空度的快速變差，因此需要采用相應(yīng)的措施快速改善真空室內(nèi)的真空度。目前，在保證真空室良好密封性的前提下，采用具有大抽速的鈦升華泵可以使真空室快速達到超高真空度。由于鈦在升化和沉積的過程中，與活性氣體結(jié)合成穩(wěn)定的化合物——固相的TiO或TiN，從而能夠快速將真空室內(nèi)的氣體分子抽除。

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的就是提供一種費用相對低廉的快速提高真空室專用真空系統(tǒng)真空度的方法。

為實現(xiàn)上述目的，普諾克提供一種快速提高真空室真空度的方法，在真空室內(nèi)，使活性高且穩(wěn)定性好的金屬蒸發(fā)形成蒸氣粒子，并將該蒸氣粒子沉積于金屬板表面形成金屬膜，金屬粒子及其形成的新鮮金屬膜可以快速吸附真空室內(nèi)的氣體分子，并進一步生成穩(wěn)定的固態(tài)物質(zhì)。在真空室內(nèi)，采用蒸發(fā)方式，使少量活性高且穩(wěn)定性好的金屬材料蒸發(fā)為蒸氣粒子，蒸氣粒子迅速與真空室內(nèi)的水蒸氣、氧氣、氫氣等氣體發(fā)生反應(yīng)，生成穩(wěn)定的固態(tài)物質(zhì)，從而達到快速提高真空室的真空度的目的。采用本方法提高真空室專用真空系統(tǒng)的真空度，不僅費用低廉而且迅速高效。

經(jīng)過真空室專用真空系統(tǒng)的介紹，為達到最佳配置，選擇真空系統(tǒng)時，應(yīng)考慮下述各點：

1.確定工作真空范圍

首先必須檢查確定每一種工藝要求的真空度。因為每一種工藝都有其適應(yīng)的真空度范圍，必須認真研究確定之。

2.確定極限真空度

在確定了工藝要求的真空度的基礎(chǔ)上檢查真空泵系統(tǒng)的極限真空度，因為系統(tǒng)的極限真空度決定了系統(tǒng)的最佳工作真空度。一般來講，系統(tǒng)的極限真空度比系統(tǒng)的工作真空度低20%，比前級泵的極限真空度低50%。

3.真空容積

檢查確定達到要求的真空度所需要的時間、真空管道的流阻與泄漏。考慮達到要求真空度后在一定工藝要求條件下維持真空需要的抽氣速率。

4.被抽氣體種類與抽氣量

檢查確定工藝要求的抽氣種類與抽氣量。因為如果被抽氣體種類與真空泵內(nèi)液體發(fā)生反應(yīng)，真空系統(tǒng)將被污染。同時必須考慮確定合適的排氣時間與抽氣過程中產(chǎn)生的氣體量。