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眾所周知，半導體工藝水平?jīng)Q定了晶體管尺寸大小。在半導體廠或光電廠中，真空系統(tǒng)應用于提供制程設備的真空吸盤或吸筆來搬運傳送晶片或玻璃，為半導體制程中相當重要之支援系統(tǒng)。本篇文章涉及半導體制程技術領域，在介紹真空系統(tǒng)在半導體制程中的應用之前，我司打算先對半導體制程和真空系統(tǒng)做些簡單的介紹。

在真空系統(tǒng)中，真空針對大氣而言，表示一特定空間或系統(tǒng)內(nèi)部分氣體被排出，其內(nèi)部空間的壓力小于大氣壓力，則稱此空間為真空或為真空狀態(tài)，簡單言之，空間內(nèi)壓力低于一大氣壓力即為真空。在高科技制程中所要求的高真空或超高真空，就必須要有足夠的真空技術或設備才能達成。

半導體制程專用真空系統(tǒng)的真空度要求一般為700-~500mmHg之間，僅落在粗略真空范圍內(nèi)，而制程設備真空度要求則視其應用范圍而定，而落在中真空度與超高真空度或以上之范圍。

不同類型的真空泵組合而成的系統(tǒng)，真空度也有所不一樣，關于真空系統(tǒng)的類型，東莞市普諾克真空科技有限公司整理出幾大類。

真空系統(tǒng)的類型有三種：

1.低真空系統(tǒng)

2.中真空系統(tǒng)

①由羅茨泵為主泵串聯(lián)機械泵而構成的系統(tǒng)；

②由油增壓泵為主泵串聯(lián)機械泵而構成的系統(tǒng)；

③由羅茨泵串聯(lián)小羅茨泵，再串聯(lián)機械泵而構成的系統(tǒng)。

3.高真空系統(tǒng)

①由擴散泵為主泵串聯(lián)羅茨泵，再串聯(lián)機械泵而構成的系統(tǒng)；

②由擴散泵為主泵串聯(lián)機械泵而構成的真空系統(tǒng)；

③由擴散泵為主泵串聯(lián)油增壓泵，再串聯(lián)機械泵而構成的真空系統(tǒng)。

根據(jù)上述所提到的內(nèi)容，在半導體制程中，最佳的方法就是選擇應用高真空系統(tǒng)，高真空系統(tǒng)可以由不同的真空設備組合而成。

事實上簡單的真空系統(tǒng)只是能獲得一個粗真空，而想要獲得高真空時，通常在真空系統(tǒng)中串聯(lián)一個高真空泵，比如羅茨泵和螺桿泵等都是獲得高真空的泵。當串聯(lián)一個高真空泵之后，通常要在高真空泵的入口和出口分別加上閥門，以便高真空泵能單獨保持真空。如果所串聯(lián)的高真空泵是一個油擴散泵，為了防止大量的油蒸氣返流進入被抽容器，通常在油擴散泵的入口加一個捕集器——水冷障板。根據(jù)要求，還可以在管路中加上除塵器、真空繼電器規(guī)頭、真空軟連接管道、真空泵入口放氣閥，散熱器等等，這樣就構成了一個較完善的高真空系統(tǒng)。

關于半導體制程和真空系統(tǒng)，小編就介紹到這里，如果您仍對真空系統(tǒng)在半導體制程中的應用有什么疑惑的話，隨時可以聯(lián)系我司。