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等離子清洗（PLASMA）是一種依靠處于“等離子態(tài)”的物質的“活化作用”，來去除物體表面污漬的一種清洗方法。它屬于電子工業(yè)清洗中的干法清洗，過程中需要真空泵制造一定的真空條件滿足清洗所需，東莞市普諾克真空科技有限公司來說說旋片真空泵在等離子清洗技術中的應用過程是怎么一回事，以及講解一下旋片真空泵具有什么特點。

等離子清洗所需要的等離子體主要通過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生，像低壓氣體輝光等離子體。簡單地如開頭說，等離子清洗需要在真空狀態(tài)下進行（一般需保持在100Pa左右），所以需要德國旋片真空泵進行抽真空作業(yè)。

等離子清洗用旋片真空泵的過程是如何的？

其主要過程包括：首先將需要清洗的工件送入真空室固定，啟動旋片真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度；接著向真空室引入等離子清洗用的氣體（根據清洗材質的不同，選用的氣體也不同，如氧氣、氫氣、氬氣、氮氣等），并將壓力保持在100Pa左右；在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電使其發(fā)生離子化，產生等離子體；在真空室內產生的等離子體完全覆蓋被清洗工件后，開始清洗作業(yè)，清洗過程會持續(xù)幾十秒到幾分鐘。整個過程就是依靠等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果（清洗過程某種程度就是輕微的蝕刻工藝）；清洗完畢后，排出汽化的污垢及清洗氣體，同時向真空室內送入空氣恢復至正常大氣壓。

清洗過程中，在旋片真空泵控制真空室的真空環(huán)境時，氣體的流量決定了發(fā)光色度：如果色度較重，說明真空度低，氣體流量較大；而偏白時，則是真空度過高，氣體流量較??；具體需要根據所需的處理效果，來確定真空泵要實現(xiàn)的真空度。

等離子清洗技術不分處理對象的基材類型，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料（如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯）等原基材料都能很好處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗，還具備環(huán)保、安全、易控制等優(yōu)勢，因此在很多方面，尤其是精密件清洗、新半導體材料研究以及集成電路器件制造業(yè)中逐漸取代了濕法清洗工藝。

普諾克旋片真空泵在等離子清洗技術中的應用同國內同類其他產品相比的優(yōu)點：

1.使用方便，安裝，維護簡單；

2.旋片真空泵設有氣鎮(zhèn)閥，可抽除少量水蒸氣；

3.旋片真空泵的極限真空度高；

4.內裝強制進油，潤滑充分，性能可靠；

5.設有自動防返油雙重保險裝置；

6.保持進氣壓強為1.33×10Pa時仍可連續(xù)運轉；

7.不漏油、不噴油、不污染工作環(huán)境。